纳米复合膜制备技术及其在干式切削刀具涂层中的应用

硬质膜涂层能减少刀具与工件间的摩擦，降低刀具切削过程中的磨损，显著提高刀具的使用寿命，因此被广泛地应用于刀具涂层。在传统涂层的制备中，化学气相沉积CVD和物理气相沉积PVD（蒸镀、溅射、离子镀）仍是刀具涂层制备的主要技术。采用CVD技术可在硬质合金可转位刀具表面实现TiN、TiC、TiCN、TiBN、TiB2、Al2O3等单层及多元多层复合涂层的沉积；采用PVD涂层技术可在硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等表面制备多种涂层。随着各类高效、高速、高精度数控机床及加工中心的应用、普及以及绿色制造理念的提出，为了满足各种高硬度、高韧性的难切削加工材料的加工需要，干切削技术越来越受到人们重视，同时也对刀具涂层技术及涂层材料提出了更高要求。纳米薄膜顺应了干切削条件下对刀具的新要求，因此纳米薄膜及其在干切削刀具中的应用成为目前刀具涂层制备及表面工程技术领域的研究热点。

2 纳米薄膜技术的研究及发展

随着纳米材料的出现，纳米薄膜（涂层）技术也得到相应的发展。时至今日，已从单一材料的纳米薄膜转向纳米复合薄膜的研究，薄膜的厚度也由数微米发展到数纳米的超薄膜。目前已经制备的薄膜有Ti（N，C，CN）、（V，Al，Nb）N、Al2O3、SiC及Cu、Ni、Al、Ag、Au、金刚石等。其中TiN、Al2O3、TiC是较典型的超硬膜，其显微硬度分别为HV1950、HV3000和HV3200，抗磨顺序是TiC>TiCN>TiN>Al2O3。这些薄膜在刀具、微机械、微电子领域作为耐磨、耐腐蚀涂层及其它功能涂层获得重要应用。自Veprek S等提出超硬纳米复合膜的概念以来，对纳米复合膜的研究更是引起广泛的重视。超硬纳米复合膜具有表面减摩、耐磨作用，可以改善摩擦副的运动可靠性和寿命，达到与高合金材料相同甚至更佳的使用效果，实现节能、节材及提高效率的目的。纳米复合膜是由两种不同材料组成，这两种材料可以是纳米晶/纳米晶，也可以是纳米晶/非晶态，每种材料的粒子尺寸在3～10nm。在复合薄膜制备方法中，等离子化学气相沉积（PACVD）最早应用于制备nc-TiN/Si3N4、nc-TiN-BN和nc-TiAlSiN薄膜。

如Veprek S和Shizhi L等人采用PACVD方法，以SiCl4、SiH、TiCl4、H2为反应气体，在550～600℃的沉积温度下制备了nc-TiN /α-Si3N4薄膜。但制备过程中反应气会腐蚀膜和设备，有造成环境污染甚至火灾的危险。一般来说，CVD沉积技术需要温度达500～600℃以促使纳米晶粒的生长，而过高的沉积温度会造成基材软化、尺寸精度下降等问题，因此严重限制了纳米复合膜的应用。研究表明，制备纳米复合膜的关键在于快速形成晶核的同时保证晶粒尺寸的低速增长。因此为保证覆膜后的整体性能不至下降，降低沉积温度便成为其技术关键。

目前的实验表明，磁控溅射技术是低温沉积最有效的方法。所以，目前的研究主要集中在用磁控溅射法制备纳米复合膜。如反应磁控溅射沉积广泛应用于制备MeC/DLC（类金刚石碳膜），Me为过渡金属如Ti等。采用这种技术，其沉积温度可低于150℃。Karvánková P等人应用不平衡磁控溅射技术制备ZrN-Ni和CrN-Ni纳米复合膜，基体温度分别为300℃和200℃；通过制备试验还发现，当基体温度高于400℃时，合成膜的硬度会降低。由此可见沉积温度对纳米复合膜的硬度影响甚大。

Musil J用直径100mm平面球形不平衡磁控管，在总压0.5Pa的Ar和Ar+N2混合气体中对TiAl合金靶进行溅射，N2分压连续变化导致薄膜结构和显微硬度明显变化，获得的nc-TiAlN/AlN纳米复合膜显微硬度高达47GPa，且具有高的弹性回复（74%）。

同时，多种技术的复合在纳米复合薄膜制备中也体现出独特的优势（如磁控溅射法与脉冲激光技术的结合）。Voevodin A A等人采用脉冲激光沉积技术（PLD）和磁控溅射技术相结合分别制备了TiC/DLC、WC/DLC/WS2纳米复合膜。由于采用这种复合技术使得沉积时的基体温度低于100℃，因而该法成为制备W-C-S系列纳米复合膜的主要方法。Meng W J等人采用射频耦合辅助（ICP）PVD/CVD技术与反应磁控溅射技术相结合制备Ti/α-C:H纳米复合膜也取得良好效果。

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